Презентация Специальные вопросы микротехнологий и нанотехнологий онлайн
На нашем сайте вы можете скачать и просмотреть онлайн доклад-презентацию на тему Специальные вопросы микротехнологий и нанотехнологий абсолютно бесплатно. Урок-презентация на эту тему содержит всего 99 слайдов. Все материалы созданы в программе PowerPoint и имеют формат ppt или же pptx. Материалы и темы для презентаций взяты из открытых источников и загружены их авторами, за качество и достоверность информации в них администрация сайта не отвечает, все права принадлежат их создателям. Если вы нашли то, что искали, отблагодарите авторов - поделитесь ссылкой в социальных сетях, а наш сайт добавьте в закладки.
Презентации » Технология » Специальные вопросы микротехнологий и нанотехнологий
Оцените!
Оцените презентацию от 1 до 5 баллов!
- Тип файла:ppt / pptx (powerpoint)
- Всего слайдов:99 слайдов
- Для класса:1,2,3,4,5,6,7,8,9,10,11
- Размер файла:4.95 MB
- Просмотров:88
- Скачиваний:0
- Автор:неизвестен
Слайды и текст к этой презентации:
№7 слайд
Содержание слайда: Основы технологии наноэлектроники
Схема установки MBE для получения легированных тройных соединений. Вся установка размещается в камере сверхвысокого вакуума:
1.Блок нагрева, 2. Подложка, 3 Заслонка отдельной ячейки, 4. Эффузионные ячейки основных компонентов, 5 Эффузионные ячейки легирующих примесей.
№8 слайд
Содержание слайда: Основы технологии одноэлектроники
Элементарные процессы в зоне роста:
1.Адсорбция атомов из зоны смешивания на поверхности,
2. Миграция (поверхностная диффу-
зия) адсорбированных атомов по поверхности,
3. Встраивание адсорбированных атомов в кристаллическую решетку,
4. Термическая десорбция,
5. Образование поверхностных зародышей, 6. Взаимная диффузия.
Над растущей поверхностью показаны атомы газовой смеси компонентов в приповерхностной области. Буквами n-n и i-i показаны нормальная и инвертированная поверхности раздела растущей ГС. Область между этими поверхностями представляет собой квантовую яму шириной L.
№9 слайд
Содержание слайда: Основы технологии одноэлектроники
Схема горизонтального реактора открытого типа с охлаждаемыми стенками для MOCVD:
1. Кварцевый корпус,
2. Катушка ВЧгенератора
для нагревания подложки,
3. Блок нагрева подложки,
4. Подложки,
5. Водяное охлаждение (впуск),
6. Водяное охлаждение (выпуск). Схематически показано распределение скоростей v и температуры T в газовом потоке в диффузионном слое вблизи подложки (масштаб не соблюден)
№14 слайд
Содержание слайда: Одним из определяющих технологических процессов в микроэлектронике в течение более 40 лет продолжает оставаться литография. Литография или микролитография, а сейчас может быть уместно, говорить о нанолитографии, предназначена для создания топологического рисунка на поверхности монокристаллической кремниевой пластины. Основным литографическим процессом в современной микроэлектронике является фотолитография.
Одним из определяющих технологических процессов в микроэлектронике в течение более 40 лет продолжает оставаться литография. Литография или микролитография, а сейчас может быть уместно, говорить о нанолитографии, предназначена для создания топологического рисунка на поверхности монокристаллической кремниевой пластины. Основным литографическим процессом в современной микроэлектронике является фотолитография.
№15 слайд
Содержание слайда: 10 ступеней литографического процесса.
1. Подготовка поверхности (промывка и сушка)
2. Нанесение резиста (тонкая пленка полимера наносится ценрифугированием)
3. Сушка (удаление растворителя и перевод резиста в твердую растворимую фазу)
4. Совмещение фотошаблона и экспонирование
(положительный резист под действием света
переходит в нерастворимую фазу )
5. Проявление резиста (промывка в растворителе,
удаляющем неэкспонированный резист)
№16 слайд
Содержание слайда: 6. Стабилизирующий отжиг (удаление остатков
6. Стабилизирующий отжиг (удаление остатков
растворителя)
7. Контроль и исправление дефектов.
8. Травление (Непосредственный перенос рисунка
маски на поверхность полупроводниковой
структуры)
9. Удаление фоторезиста.
10. Финишный контроль.
№28 слайд
Содержание слайда: АЛЬТЕРНАТИВНЫЕ ИСТОЧНИКИ ЭКСПОНИРОВАНИЯ.
Для получения структур с разрешением ниже 100 нм становится обоснованным использование принципиально новых способов экспонирования. Принимая во внимание необходимость разработки высокопроизводительных литографических систем можно выделить следующие 4 основные направления: предельный или экстремальный ультрафиолет (extreme UV lithography – EUVL), электронная проекционная литография (SCALPEL), рентгеновская литография (Х- ray lithography), ионная литография (ion beam lithography).
№29 слайд
Содержание слайда: ЛИТОГРАФИЯ С ЭКСТРЕМАЛЬНЫМ УЛЬТРАФИОЛЕТОМ.
EUVL является обычной оптической литографией, но с использованием излучения с длиной волны 11 - 14 нм и отражательными оптикой и фотошаблонами. Источниками излучения в EUVL на первом этапе развития подобных систем служило синхротронное излучение. Однако позже был разработан малогабаритный источник предельного ультрафиолета, принцип работы которого основан на использовании излучении из лазерной плазмы. Излучение стандартного Nd:YAG лазера (1063 нм длина волны, 40 Вт мощность, 100 Гц частота, 5 нс длительность) фокусируется на импульсной газовой струе Xe кластеров.
№32 слайд
Содержание слайда: ПРОЕКЦИОННАЯ ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВАЯ ЛИТОГРАФИЯ.
ОГРАНИЧЕНИЯ ПРОЕКЦИОННОЙ ЭЛЛ:
1.Термический нагрев маски.
2. Большие числовые апертуры.
Понимание ограничений адсорбционной ЭЛЛ привело к появлению новых проекционных ЭЛЛ систем, одна из которых получила название SCALPEL. Главное отличие новых систем от предыдущих заключается в использовании нового типа масок. Маска системы SCALPEL представляет собой набор мембран, изготовленных из легких элементов, с высокой проницаемостью для электронов. Рисунок создается пленками из тяжелых элементов с большой отражательной способностью.
№34 слайд
Содержание слайда: Электроны проходящие через мембраны рассеиваются на малые углы, тогда как рисунок рассеивает электроны на большие углы. Апертура, расположенная в обратной фокальной плоскости полевой оптической системы пропускает электроны, рассеянные на малые углы и не пропускает электроны, рассеянные на большие углы, что приводит к формированию на подложке высококонтрастного изображения. При этом в маске не происходит значительного поглощения электронного потока, что минимизирует тепловую нестабильность маски.
Электроны проходящие через мембраны рассеиваются на малые углы, тогда как рисунок рассеивает электроны на большие углы. Апертура, расположенная в обратной фокальной плоскости полевой оптической системы пропускает электроны, рассеянные на малые углы и не пропускает электроны, рассеянные на большие углы, что приводит к формированию на подложке высококонтрастного изображения. При этом в маске не происходит значительного поглощения электронного потока, что минимизирует тепловую нестабильность маски.
№42 слайд
Содержание слайда: Катодное распыление
Еi >Eth; Eth- пороговая энергия распыления.
Eth слабозависит от атомной массы ионов и мишени
Eth 10 – 30 eV
Среднее расстояние, dt, проходимое ионом в тв. Теле, зависит от энергии и атомного номера иона, атомного номера и структуры мишени.
Для Ar+ cэнергией 0,5-5eV
Si – 3,5 nm/keV; SiO2 – 5,0 nm/keV; Au - 1,3 nm/keV; Al - 1,5 nm/keV;
Толщина поврежденного слоя обычно составляет ½ dt.
Только 5% энергии иона затрачивается на распыление, 70-90 % идет на термический нагрев мишени, остальное на радиационные повреждения, вторичную электронную эмиссию и ЭМ излучение в широком спектре частот.
№49 слайд
Содержание слайда: Типовая установка (Oxford instruments)
RIE technology
top electrode with shower head gas inlet
substrate electrode with 13 MHz Generator and Automatch (AMU)
substrate electrode water cooled
System control: PLC (programmable logic controller) and PC 2000
Turbo or Roots pump with dual stage rotary as backing pump
gate valve and APC (automatic pressure) control valve
pressure reading: CM gauge for process (Capacitance Manometer)
additional Penning for base pressure
gas pod with 6/ 12 MFC controlled gas lines (Mass Flow Controller)
№50 слайд
Содержание слайда: typical process pressure: 5 - 150 mtorr
plasma density: ca 1 - 5 x 109 / cm2
standard method for most applications
RF ("self") bias forms at the substrate electrode
Ion Energy (~ RF bias) dependent on the
RF power and process pressure
energy range process dependent: 30 eV - 1.000 eV
end point detection: optical emission, laser interferometry
№56 слайд
Содержание слайда: Definition of ALD
ALD is a method of applying thin films to various substrates with atomic scale precision.
Similar in chemistry to chemical vapor deposition (CVD), except that the ALD reaction breaks the CVD reaction into two half-reactions, keeping the precursor materials separate during the reaction.
ALD film growth is self-limited and based on surface reactions, which makes achieving atomic scale deposition control possible.
By keeping the precursors separate throughout the coating process, atomic layer thickness control of film grown can be obtained as fine as atomic/molecular scale per monolayer.
№57 слайд
Содержание слайда: Brief History of ALD
Introduced in 1974 by Dr. Tuomo Suntola and co-workers in Finland to improve the quality of ZnS films used in electroluminescent displays.
Recently, it turned out that ALD also produces outstanding dielectric layers and attracts semiconductor industries for making High-K dielectric materials.
№58 слайд
Содержание слайда: ALD Process and Equipments
Releases sequential precursor gas pulses to deposit a film one layer at a time on the substrate.
The precursor gas is introduced into the process chamber and produces a monolayer of gas on the wafer surface. A second precursor of gas is then introduced into the chamber reacting with the first precursor to produce a monolayer of film on the wafer surface.
Two fundamental mechanisms:
Chemisorption saturation process
Sequential surface chemical reaction process
Example: ALD cycle for Al2O3 deposition
Since each pair of gas pulses (one cycle) produces exactly one monolayer of film, the thickness of the resulting film may be precisely controlled by the number of deposition cycles.
№66 слайд
Содержание слайда: ALD Process and Equipments
Releases sequential precursor gas pulses to deposit a film one layer at a time.
A first precursor gas is introduced into the process chamber and produces a monolayer of gas on the wafer surface. Then a second precursor of gas is introduced into the chamber reacting with the first precursor to produce a monolayer of film on the wafer surface.
Two fundamental mechanisms:
Chemisorption saturation process
Sequential surface chemical reaction process
Example: ALD cycle for Al2O3 deposition
№83 слайд
Содержание слайда: Квантовые нити.
Одномерный электронный газ
Полупроводниковые гетероструктуры с квантовыми нитями, полученные с помощью субмикронной литографии за счет вытравливания узкой полоски из самой структуры (а) или щели в затворе Шоттки (б):
1 – полупроводник с широкой запрещенной зоной (AlGaAs); 2 – полупроводник с узкой запрещенной зоной (GaAs); 3 – металлический затвор.
№86 слайд
Содержание слайда: Туннелирование
Квантовое ограничение, проявляясь в наноразмерных структурах, накладывает специфический отпечаток и на туннелирование. Так, квантование энергетических состояний электронов в очень тонких, периодически расположенных потенциальных ямах приводит к тому, что туннелирование через них приобретает резонансный характер, то есть туннельно просочиться через такую структуру могут лишь электроны с определенной энергией.
№89 слайд
Содержание слайда: Одноэлектроника.
Одно из самых перспективных направлений увеличения степени интеграции микросхем основано на развитии приборов, в которых контролируется перемещение буквально одного электрона. В таких устройствах, называемых сейчас одноэлектронными транзисторами бит информации будет представлен одним электроном. В одноэлектронных транзисторах время перемещения электрона определяется процессами туннелирования и может быть очень малым.
Скачать все slide презентации Специальные вопросы микротехнологий и нанотехнологий одним архивом:
-
Специальные виды кладки. Производство кирпичной кладки и организация труда каменщиков
-
Оптико-электронные приборы специального назначения. Описание и область применения
-
Выступление по вопросам охраны труда в строительстве
-
Арматура неметаллическая (нанотехнологии)
-
Специальные методы бетонирования
-
Актуальные вопросы при проведении экспертизы проектной документации по капитальному ремонту, реконструкции автомобильных дорог
-
Свойства растворов. Планочные, отделочные и специальные растворы
-
Нанотехнологии в производстве строительных материалов и изделий
-
Инженерно-технические и конструктивные вопросы реконструкции
-
Распалубочная прочность бетона. Особенности строительства в условиях жаркого климата. Специальные антисейсмичные мероприятия